Fabrikage van fotolithografische apparatuur 2025: Toenemende vraag en next-gen technologie stimuleren 8% CAGR-groei

25 mei 2025
Geen reacties
Industrie, Innovatie, News, Technologie

Fabrikage van Photolithografie-apparatuur in 2025: Ontdek de Volgende Golf van Innovatie in Halfgeleiders. Ontdek Hoe Geavanceerde Lithografietools de Toekomst van Microchipproductie en Marktexpansie Aandrijven.

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur gaat 2025 binnen te midden van krachtige vraag, technologische innovatie en aanzienlijke geopolitieke en druk op de leveringsketen. Photolithografie, een hoeksteen van de fabricage van halfgeleiders, wordt gedomineerd door een kleine groep hooggespecialiseerde fabrikanten, met ASML Holding als de duidelijke wereldleider in extreme ultraviolet (EUV) en diepe ultraviolet (DUV) lithografiesystemen. De EUV-systemen van het bedrijf blijven essentieel voor de productie van geavanceerde logica- en geheugenchips bij nodes van minder dan 7 nm, en de orderportefeuille blijft groeien, hetgeen de blijvende vraag van toonaangevende foundries en geïntegreerde apparatenfabrikanten weerspiegelt.

In 2025 wordt de industrie gekarakteriseerd door verschillende belangrijke trends:

  • Voortdurende EUV-uitbreiding: De overgang naar EUV-lithografie versnelt, waarbij grote chipfabrikanten zoals TSMC, Samsung Electronics en Intel Corporation hun EUV-capaciteit uitbreiden om geavanceerde procesnodes (3 nm en lager) te ondersteunen. De nieuwste High-NA EUV-systemen van ASML, die zelfs fijnere resolutie beloven, worden in 2025 in pilotlijnen verwacht.
  • DUV-vraag blijft sterk: Ondanks de verschuiving naar EUV blijft de vraag naar DUV-lithografieapparatuur hoog, vooral voor volwassen nodes en speciale toepassingen. Bedrijven zoals Nikon Corporation en Canon Inc. blijven DUV-systemen leveren, met name aan markten in China en Zuidoost-Azië, waar de productie van volwassen nodes uitbreidt.
  • Geopolitieke en Leveringsketendynamiek: Exportcontroles en handelsbeperkingen, vooral die opgelegd door de Verenigde Staten en haar bondgenoten, beïnvloeden de aanvoer van geavanceerde photolithografie-apparatuur naar bepaalde regio’s, met name China. Dit stimuleert pogingen om de productie van apparatuur te localiseren en leveringsketens te diversifiëren, waarbij Chinese bedrijven R&D in binnenlandse lithografietechnologieën versnellen.
  • Investeringen en Capaciteitsuitbreiding: Grote fabrikanten van halfgeleiders investeren zwaar in nieuwe fabrieken en apparatuur, met plannen voor kapitaalinvesteringen in de miljarden voor 2025 en daarna. Dit drijft de aanhoudende ordergroei voor photolithografie-apparatuur, alhoewel de levertijden langer blijven door componententekorten en complexe systeemintegratie.

Vooruitkijkend wordt verwacht dat de markt voor photolithografie-apparatuur sterke groei zal handhaven tot 2025 en in de daaropvolgende jaren, ondersteund door de wereldwijde inzet voor geavanceerde halfgeleiderfabricage, voortdurende digitale transformatie en de proliferatie van AI, automotive en IoT-toepassingen. De sector wordt echter geconfronteerd met voortdurende uitdagingen met betrekking tot technologiecomplexiteit, veerkracht van de leveringsketen en geopolitieke onzekerheid, die het concurrentielandschap en de innovatietrajecten voor de nabije toekomst zullen vormen.

Marktomvang, Groeipercentage en Vooruitzichten 2025–2030

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur is een hoeksteen van de wereldwijde halfgeleiderindustrie, die de productie van geavanceerde geïntegreerde circuits ondersteunt. In 2025 ervaart de markt stevige groei, gedreven door de toenemende vraag naar high-performance chips in toepassingen zoals kunstmatige intelligentie, 5G, automotive elektronica en datacenters. De overgang naar geavanceerde procesnodes (5 nm, 3 nm en verder) versterkt de behoefte aan geavanceerde photolithografie-tools, met name extreme ultraviolet (EUV) systemen.

Industrieleiders zoals ASML Holding, Canon Inc., en Nikon Corporation domineren de wereldwijde markt voor photolithografie-apparatuur. ASML Holding is de enige leverancier van EUV-lithografiesystemen, die essentieel zijn voor de fabricage op de meest geavanceerde nodes. Het bedrijf rapporteerde netto-omzet van €27,6 miljard in 2023, met een aanzienlijk deel toegeschreven aan EUV-systeemleveringen, en verwacht voortgaande groei in 2025 terwijl toonaangevende foundries en geïntegreerde apparatenfabrikanten (IDM’s) hun investeringen in volgende generatie fabrieken verhogen.

De totale marktomvang van photolithografie-apparatuur wordt geschat op meer dan $20 miljard in 2025, met een samengestelde jaarlijkse groei (CAGR) die tussen de 8% en 10% ligt tot 2030. Deze expansie wordt aangewakkerd door agressieve kapitaalinvesteringen van grote fabrikanten van halfgeleiders, waaronder Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), Samsung Electronics en Intel Corporation, die allemaal zwaar investeren in geavanceerde procestechnologieën en nieuwe productiefaciliteiten.

Vooruitkijkend naar 2030 blijft de marktvooruitzichten positief. De proliferatie van AI-gedreven toepassingen, de uitrol van 6G-netwerken en de elektrificatie van voertuigen zullen naar verwachting een hoge vraag naar toonaangevende chips onderhouden, wat weer voortdurende investeringen in photolithografie-apparatuur ondersteunt. De introductie van High-NA EUV-systemen, die nog fijnere patroonmogelijkheden beloven, zal naar verwachting de marktwaarde en technologische differentiatie onder apparatuur leveranciers verder verhogen. ASML Holding heeft al plannen aangekondigd om in 2025 zijn eerste High-NA EUV-systemen aan klanten te leveren, wat een belangrijke technologische mijlpaal voor de sector markeert.

  • Marktomvang 2025: >$20 miljard
  • 2025–2030 CAGR: 8–10%
  • Belangrijke drijfveren: AI, 5G/6G, automotive, geavanceerde procesnodes
  • Leidende leveranciers: ASML Holding, Canon Inc., Nikon Corporation
  • Belangrijke klanten: TSMC, Samsung Electronics, Intel Corporation

Concurrentielandschap: Leidinggevende Fabrikanten en Nieuwe Deelnemers

Het concurrentielandschap van de fabricage van photolithografie-apparatuur in 2025 wordt gekenmerkt door een klein aantal dominante spelers, aanzienlijke technologische toetredingsdrempels en een groeiende interesse van nieuwe deelnemers, vooral als reactie op geopolitieke en druk op de leveringsketen. De sector is cruciaal voor de halfgeleiderindustrie, aangezien photolithografie-tools essentieel zijn voor het produceren van geavanceerde geïntegreerde circuits.

De onbetwiste leider op dit gebied is ASML Holding, gevestigd in Nederland. ASML is het enige bedrijf ter wereld dat in staat is extreme ultraviolet (EUV) lithografiemachines te produceren, die onmisbaar zijn voor de fabricage van chips op de meest geavanceerde procesnodes (5 nm, 3 nm en lager). In 2024 rapporteerde ASML recordomzetten, met vraag naar zijn EUV- en diepe ultraviolet (DUV) systemen die het aanbod overtreft, en zijn orderportefeuille die zich goed in 2025 en daarna uitstrekt. Het technologische voordeel van het bedrijf wordt ondersteund door een complexe wereldwijde leveringsketen en exclusieve partnerschappen met belangrijke componentleveranciers, zoals Carl Zeiss AG voor optiek en TRUMPF voor lasertechnologie.

Andere belangrijke spelers zijn Canon Inc. en Nikon Corporation, beide uit Japan, die zich voornamelijk richten op DUV-lithografiesystemen. Hoewel deze bedrijven marktaandeel op de meest geavanceerde nodes hebben verloren aan ASML, blijven ze belangrijke leveranciers voor volwassen en speciale halfgeleiderfabricage, zoals automotive en stroomdoppen. Zowel Canon als Nikon blijven investeren in incrementele verbeteringen van hun DUV-platforms en verkennen nieuwe toepassingen, waaronder paneelniveau- en nano-imprint-lithografie.

De hoge kosten, complexiteit en intellectuele eigendomsbelemmeringen hebben historisch gezien nieuwe deelnemers beperkt. Echter, 2025 ziet toenemende inspanningen door Chinese bedrijven, met name SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) en Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), om inheemse photolithografiecapaciteiten te ontwikkelen. SMEE heeft vooruitgang gerapporteerd met zijn 28 nm DUV-immersie lithografiegereedschap, met als doel de afhankelijkheid van buitenlandse leveranciers te verminderen. Hoewel deze systemen achterlopen op de EUV-technologie van ASML, vertegenwoordigen ze een belangrijke stap voor China’s ambities op het gebied van zelfvoorzienendheid in halfgeleiders.

Vooruitkijkend wordt verwacht dat het concurrentielandschap sterk geconcentreerd blijft, met ASML die zijn technologische voorsprong in EUV behoudt. Echter, voortdurende exportcontroles, door de overheid gesteunde R&D-initiatieven en de stijgende vraag naar apparatuur voor volwassen nodes zullen waarschijnlijk incrementele concurrentie en innovatie stimuleren, met name in regionale markten. De komende jaren zullen worden gevormd door zowel de race om technologische superioriteit als de drang naar veerkracht in de leveringsketen.

Technologische Innovaties: EUV, DUV en Meer

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur ervaart een snelle technologische evolutie, met een sterke focus op het bevorderen van extreme ultraviolet (EUV) en diepe ultraviolet (DUV) lithografiesystemen. In 2025 zijn deze innovaties centraal voor de voortzetting van de miniaturisatie van halfgeleidercomponenten en ondersteunen ze de productie van chips op 5 nm, 3 nm en zelfs nog geavanceerdere nodes.

EUV-lithografie, die werkt op een golflengte van 13,5 nm, is de hoeksteen geworden voor geavanceerde fabricage van halfgeleiders. ASML Holding NV blijft de enige leverancier van hoge-volume EUV-scanners, waarbij de nieuwste Twinscan NXE- en EXE-platforms worden aangenomen door grote foundries en geïntegreerde apparatenfabrikanten. In 2024 en 2025 verhoogt ASML de verzending van zijn High-NA EUV-systemen, die hogere numerieke apertuuroptiek bieden om de resolutie en patroongetrouwheid verder te verbeteren. Deze systemen zijn cruciaal voor het mogelijk maken van sub-2nm procestechnologieën, waarbij klanten zoals Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), Samsung Electronics en Intel Corporation zwaar investeren in hun adoptie.

DUV-lithografie, met name immersiesystemen die gebruikmaken van ArF (argonfluoride) lasers op 193 nm, blijft een vitale rol spelen in zowel geavanceerde als volwassen procesnodes. Nikon Corporation en Canon Inc. zijn de belangrijkste concurrenten van ASML in het DUV-segment en leveren scanners voor geheugen, logica en speciale apparatenfabricage. In 2025 blijven DUV-tools onmisbaar voor multi-patterning stappen en voor de fabricage van nodes waar EUV nog niet kosteneffectief of beschikbaar is.

Kijkend voorbij EUV en DUV, verkent de industrie concepten voor lithografie van de volgende generatie, zoals high-NA EUV, gedirigeerde zelfassemblage (DSA) en nano-imprint lithografie. ASML’s High-NA EUV-systemen, met een numerieke apertuur van 0,55, worden verwacht in 2025 in pilotproductie te komen, gericht op de technologie nodes van 2nm en lager. Ondertussen versnellen onderzoeks-samenwerkingen tussen toonaangevende apparatuurfabrikanten en consortia zoals SEMI en imec de ontwikkeling van alternatieve patroontechnieken om de uitdagingen van verdere schaling aan te pakken.

De vooruitzichten voor de fabricage van photolithografie-apparatuur in de komende jaren zijn robuust, gedreven door de stijgende vraag naar geavanceerde chips in AI, automotive en high-performance computing. De sector staat echter voor uitdagingen met betrekking tot beperkingen in de leveringsketen, geopolitieke spanningen en de enorme kapitaalinvestingen die nodig zijn voor de ontwikkeling van gereedschappen van de volgende generatie. Desondanks zullen de voortdurende technologische innovaties in EUV, DUV en opkomende lithografiemethoden de concurrentielandschap definiëren en de routekaart van de halfgeleiderindustrie door de tweede helft van het decennium mogelijk maken.

Dynamiek van de Leveringsketen en Geopolitieke Impact

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur ervaart aanzienlijke verschuivingen in de dynamiek van de leveringsketen en geopolitieke impact in 2025, waarbij wordt verwacht dat deze trends in de komende jaren zullen verintensiveren. Photolithografie, een hoeksteen van de fabricage van halfgeleiders, vertrouwt op een zeer gespecialiseerde en geglobaliseerde leveringsketen, met een handvol bedrijven die de kritische segmenten domineren.

De meest geavanceerde photolithografiesystemen, met name extreme ultraviolet (EUV) lithografie, worden vrijwel uitsluitend geproduceerd door ASML Holding NV, een Nederlands bedrijf dat deze machines levert aan toonaangevende chipfabrikanten wereldwijd. De leveringsketen van ASML is diep onderling verbonden met leveranciers uit de Verenigde Staten, Japan en Europa, waaronder optiek van Carl Zeiss AG en componenten van Cymer (een dochteronderneming van ASML Holding NV), evenals precisie-mechatronica van verschillende Europese bedrijven.

Geopolitieke spanningen, met name tussen de Verenigde Staten en China, hebben geleid tot exportcontroles en beperkingen op de verkoop van geavanceerde photolithografie-apparatuur naar bepaalde markten. In 2023 en 2024 heeft de Nederlandse overheid, onder druk van de VS, vergunningseisen opgelegd voor de export van de meest geavanceerde systemen van ASML naar China. Dit beleid wordt verwacht dat het ook in 2025 en daarna van kracht blijft, wat de toegang van China tot baanbrekende EUV-technologie beperkt en de Chinese fabrikanten dwingt om zich te richten op minder geavanceerde diepe ultraviolet (DUV) systemen of snel binnenlandse ontwikkelingsinspanningen te versnellen.

Ondertussen blijven Japanse bedrijven zoals Nikon Corporation en Canon Inc. DUV-photolithografie-apparatuur leveren, maar zij worden ook geconfronteerd met toenemende controle en potentiële exportbeperkingen. De Amerikaanse overheid heeft ook zijn lijst van gecontroleerde technologieën uitgebreid, wat de aanvoer van kritische componenten en software van Amerikaanse bedrijven naar zowel Chinese als, in sommige gevallen, andere internationale klanten beïnvloedt.

Deze geopolitieke ontwikkelingen stimuleren fabrikanten van halfgeleiders om hun leveringsketens te diversifiëren en te investeren in regionale productiemiddelpunt. De Europese Unie en de Verenigde Staten stimuleren de binnenlandse productie van halfgeleiderapparatuur door middel van beleidsinitiatieven en financiering, met als doel de afhankelijkheid van Oost-Aziatische leveringsketens te verminderen. Tegelijkertijd investeert China zwaar in inheemse photolithografie-technologie, hoewel het nog steeds enkele jaren achterloopt op de geavanceerde mogelijkheden van ASML en zijn partners.

Kijkend naar de toekomst, zal de leveringsketen van photolithografie-apparatuur waarschijnlijk meer gefragmenteerd en regionaal gericht worden, met voortdurende risico’s op verstoring door exportcontroles, handelsgeschillen en de complexiteit van het sourcen van zeer gespecialiseerde componenten. De afhankelijkheid van de industrie van een klein aantal kritische leveranciers, met name voor EUV-technologie, zal een strategische kwetsbaarheid blijven tot tenminste de tweede helft van het decennium.

Eindgebruikerssegmenten: Halfgeleiders, Displays en MEMS-toepassingen

De fabricage van photolithografie-apparatuur wordt fundamenteel gedreven door de eisen van drie belangrijke eindgebruikerssegmenten: de halfgeleiders-, display- en micro-elektromechanische systemen (MEMS)-industrieën. In 2025 ervaren deze sectoren uiteenlopende groeipatronen, die elk de vraag naar geavanceerde photolithografie-tools op verschillende manieren vormgeven.

De halfgeleiderindustrie blijft de dominante consument van photolithografie-apparatuur, goed voor het overgrote deel van de wereldwijde vraag. De voortdurende overgang naar sub-5nm en zelfs 3nm procesnodes in de productie van logica- en geheugenchips versterkt de behoefte aan extreme ultraviolet (EUV) lithografiesystemen. ASML Holding NV is de enige leverancier van EUV-lithografiemachines, waarbij zijn klanten – grote foundries en geïntegreerde apparatenfabrikanten – hun investeringen verhogen om de capaciteit van geavanceerde nodes uit te breiden. In 2025 verwacht ASML meer dan 60 EUV-systemen te verzenden, een aanzienlijke stijging ten opzichte van voorgaande jaren, wat de robuuste vraag vanuit toonaangevende halfgeleiderfabs weerspiegelt. Ondertussen blijven Canon Inc. en Nikon Corporation diepe ultraviolet (DUV) lithografiesystemen leveren, die onmisbaar blijven voor volwassen nodes en speciale halfgeleider toepassingen.

Het displayfabricage-segment, dat vlakke panelen (FPD) zoals OLED en LCD omvat, is een andere belangrijke markt voor photolithografie-apparatuur. Hier ligt de focus op grote-area lithografie-tools die in staat zijn om glassubstraten van toenemende grootte en complexiteit aan te pakken. Zowel Canon Inc. als Nikon Corporation zijn belangrijke leveranciers van FPD-lithografiesystemen, die de productie van hoge-resolutiedisplays voor smartphones, televisies en automotive-toepassingen ondersteunen. De verschuiving naar geavanceerde display-technologieën, waaronder microLED en quantumdot-displays, zal naar verwachting een incrementele vraag naar next-generation photolithografie-oplossingen stimuleren die zijn aangepast aan deze opkomende formaten.

MEMS-toepassingen, hoewel ze een kleinere aandeel van de markt voor photolithografie-apparatuur vertegenwoordigen, krijgen steeds meer nadruk door de proliferatie van sensoren en actuatoren in automotive-, consumentenelektronica- en industriële IoT-apparaten. De fabricage van MEMS vertrouwt doorgaans op volwassen lithografieplatforms, maar de druk om te miniaturiseren en integreren stimuleert sommige fabrikanten om meer geavanceerde lithografietechnieken aan te nemen. Apparatuurleveranciers reageren door flexibele, kosteneffectieve systemen aan te bieden die zijn geoptimaliseerd voor de productie van MEMS in hoge mix en lage volumes.

Vooruitkijkend blijft de vooruitzichten voor de fabricage van photolithografie-apparatuur in deze eindgebruikerssegmenten positief. De halfgeleidersector zal het grootste deel van de investeringen blijven aandrijven, vooral nu AI, high-performance computing en 5G/6G-technologieën de vraag naar geavanceerde chips stimuleren. Display- en MEMS-markten zullen naar verwachting een gestage, zij het bescheiden, groei bieden, waarbij innovaties in displayformaten en sensorintegratie voortdurende upgrades van apparatuur ondersteunen. Toonaangevende fabrikanten zoals ASML Holding NV, Canon Inc., en Nikon Corporation zijn goed gepositioneerd om van deze trends te profiteren door voortdurende R&D en uitbreiding van hun productportfolio.

Duurzaamheid en Milieuoverwegingen in Apparatuurfabrikage

Duurzaamheid en milieuoverwegingen staan steeds centraler in de sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur, nu de halfgeleiderindustrie geconfronteerd wordt met toenemende regelgeving en maatschappelijke druk om de ecologische voetafdruk te verminderen. In 2025 intensiveren leidende fabrikanten hun inspanningen om het energieverbruik, het gebruik van gevaarlijke chemicaliën en de afvalproductie gedurende de hele levenscyclus van het apparaat te minimaliseren.

Een belangrijke focus is de vermindering van de broeikasgasemissies die verband houden met zowel het productieproces als de werking van photolithografie-tools. ASML Holding NV, de dominante leverancier van extreme ultraviolet (EUV) lithografiesystemen, heeft openbaar toegezegd om tegen 2025 netto nul broeikasgasemissies in zijn eigen operaties te bereiken en werkt samen met zijn leveringsketen om Scope 3-emissies te verminderen. De nieuwste EUV-systemen van ASML zijn ontworpen om energiezuiniger te zijn, met innovaties in energiebeheer en koelsystemen die de operationele energiebehoeften per verwerkte wafer verlagen.

Een andere belangrijke speler, Canon Inc., benadrukt het gebruik van recyclebare materialen en de vermindering van gevaarlijke stoffen in zijn photolithografie-apparatuur. De milieuprojecten van Canon omvatten de ontwikkeling van energiezuinige technologieën en de implementatie van gesloten kringloop-recyclingsystemen voor componenten en verpakking. Evenzo heeft Nikon Corporation doelstellingen gesteld voor het verminderen van CO2-emissies en investeert het in de ontwikkeling van meer hulpbronnenefficiënte productiemethoden voor zijn halfgeleider-lithografiesystemen.

Waterverbruik en chemisch beheer zijn ook kritieke zorgen. De fabricage van photolithografie-apparatuur omvat het gebruik van ultra-puur water en verschillende chemicaliën, waarvan sommige gevaarlijk zijn. Bedrijven investeren in geavanceerde filtratie- en recyclingsystemen om het waterverbruik te minimaliseren en een veilige behandeling en verwijdering van chemicaliën te waarborgen. ASML heeft bijvoorbeeld vooruitgang gerapporteerd in het verminderen van het waterverbruik per geproduceerd systeem en werkt samen met leveranciers om de chemische beheerspraktijken te verbeteren.

Kijkend naar de toekomst, wordt verwacht dat de industrie geconfronteerd zal worden met strengere milieuregels, met name in regio’s zoals de Europese Unie en Oost-Azië, waar de fabricage van halfgeleiders zich concentreert. Apparatuurfabrikanten reageren door levenscyclusbeoordelingsmethodologieën (LCA) in het productontwerp te integreren, met als doel de milieu-impact van de winning van grondstoffen tot aan de recycling aan het einde van de levensduur te kwantificeren en te verminderen.

Samenvattend wordt duurzaamheid een competitief onderscheidend kenmerk in de fabricage van photolithografie-apparatuur. Bedrijven zoals ASML, Canon en Nikon lopen voorop met ambitieuze milieudoelstellingen, innovaties in milieuvriendelijk ontwerp en transparante rapportage. Deze inspanningen zullen naar verwachting versnellen, aangezien klanten en regelgevers meer verantwoordelijkheid eisen en de industrie probeert zich in overeenstemming te brengen met wereldwijde klimaatdoelen in de komende jaren.

Regionale Analyse: Azië-Pacific, Noord-Amerika en Europa

De wereldwijde sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur is sterk geconcentreerd in drie belangrijke regio’s: Azië-Pacific, Noord-Amerika en Europa. Elke regio speelt een unieke rol in de leveringsketen, technologieontwikkeling en marktvraag, met verwachting dat 2025 deze dynamiek zal versterken te midden van doorlopende geopolitieke en technologische verschuivingen.

Azië-Pacific blijft de grootste markt en productiehub voor photolithografie-apparatuur, gedreven door de dominantie van halfgeleiderfabricage in landen zoals Taiwan, Zuid-Korea, China en Japan. Taiwan’s Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) en Zuid-Korea’s Samsung Electronics behoren tot de wereldleidinggevende chipmakers, die een aanzienlijk aandeel van de wereldwijde waferproductie voor hun rekening nemen en daarmee de vraag naar geavanceerde lithografietools aanjagen. Japan’s Canon Inc. en Nikon Corporation zijn ook belangrijke fabrikanten van photolithografie-apparatuur, vooral in het DUV-segment. China blijft zwaar investeren in binnenlandse mogelijkheden voor halfgeleiderapparatuur, met bedrijven zoals SMIC en NAURA Technology Group die proberen de afhankelijkheid van buitenlandse leveranciers te verminderen, hoewel de toegang tot extreme ultraviolet (EUV) technologie beperkt blijft vanwege exportcontroles.

Noord-Amerika is de thuisbasis van verschillende belangrijke spelers in de leveringsketen van photolithografie, met name Applied Materials, Inc. en Lam Research Corporation, die essentiële procesapparatuur en subsysteemservices bieden. Terwijl de VS geen toonaangevende photolithografie-scanners fabriceren, is het een belangrijke leverancier van componenten, software en materialen. De CHIPS-wet en gerelateerde incentives van de Amerikaanse overheid worden verwacht dat ze de binnenlandse fabricage van halfgeleiders en, bij uitbreiding, de vraag naar photolithografie-apparatuur stimuleren tot 2025 en daarbuiten.

Europa is op unieke wijze gepositioneerd als de wereldleider in geavanceerde photolithografie-technologie, voornamelijk door ASML Holding N.V. uit Nederland. ASML is de enige leverancier van EUV-lithografiesystemen, die essentieel zijn voor het produceren van chips op de 5nm-node en lager. De orderportefeuille van het bedrijf blijft robuust, met belangrijke klanten in Azië en Noord-Amerika. Europese leveranciers zoals Carl Zeiss AG leveren cruciale optische componenten voor deze systemen. De voortdurende investeringen van de regio in R&D en haar strategische rol in het wereldwijde ecosysteem van halfgeleiders zullen naar verwachting haar leiderschap in innovaties op het gebied van lithografie in de komende jaren onderhouden.

Vooruitkijkend naar 2025 en daarna zal het landschap van de fabricage van photolithografie-apparatuur worden gevormd door voortdurende technologische vooruitgang, herstructurering van leveringsketens en overheidsinterventies in deze drie regio’s. De wisselwerking tussen de productiecapaciteit van Azië-Pacific, de component expertise van Noord-Amerika en het technologische leiderschap van Europa zal centraal blijven staan in de evolutie van de industrie.

Investeringen, M&A en Strategische Partnerschappen

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur ervaart een verhoogde investeringsactiviteit, fusies en overnames (M&A), en strategische partnerschappen nu de wereldwijde halfgeleiderindustrie haar inspanningen verhevigt om geavanceerde chipproductiecapaciteiten te verzekeren. In 2025 wordt het concurrentielandschap gevormd door de race om volgende generatie extreme ultraviolet (EUV) en diepe ultraviolet (DUV) lithografiesystemen te ontwikkelen en uit te rollen, waarbij aanzienlijke kapitaalstromen naar zowel gevestigde leiders als opkomende spelers gaan.

De dominante kracht in de sector blijft ASML Holding, de enige leverancier van EUV-lithografiesystemen, die kritisch zijn voor het produceren van chips op de meest geavanceerde procesnodes. ASML blijft zwaar investeren in het uitbreiden van zijn productiecapaciteit en R&D, met kapitaalinvesteringen die naar verwachting €1,5 miljard zullen overschrijden in 2025. Het bedrijf heeft ook zijn strategische partnerschappen met belangrijke leveranciers zoals Carl Zeiss AG (optiek) en TRUMPF Group (lasertechnologie) verdiept, wat zorgt voor een stabiele leveringsketen voor zijn complexe systemen. Deze samenwerkingen zijn essentieel om te voldoen aan de stijgende vraag van toonaangevende foundries en geïntegreerde apparaatfabrikanten (IDM’s) wereldwijd.

Tegelijkertijd intensiveren Japanse fabrikanten zoals Nikon Corporation en Canon Inc. hun investeringen in DUV-lithografie en verkennen ze nieuwe bedrijfsmodellen, waaronder joint ventures en technologie-licensing, om relevant te blijven in een markt die steeds meer wordt gedomineerd door EUV. Beide bedrijven hebben plannen aangekondigd om hun R&D-uitgaven in 2025 te verhogen, gericht op nichetoepassingen en volwassen procesnodes waar DUV essentieel blijft.

De ambitie van China om de productie van halfgeleiderapparatuur te lokalizeren heeft geleid tot een enorme toename van binnenlandse investeringen en strategische allianties. Bedrijven zoals SMIC en NAURA Technology Group werken samen met lokale fabrikanten van photolithografie-gereedschappen om de ontwikkeling van inheemse systemen te versnellen. De Chinese overheid blijft substantiële financiering en beleidssteun bieden, met als doel de afhankelijkheid van buitenlandse leveranciers te verminderen te midden van voortdurende exportcontroles.

M&A-activiteit wordt verwacht dat deze robuust blijft tot 2025 en daarna, aangezien kleinere fabrikanten van apparatuur schaal en technologische toegang zoeken door consolidatie. Strategische partnerschappen – vooral die gericht op co-ontwikkeling van nieuwe lithografie technieken, materialen en automatisering – prolifereren, waarbij grote spelers allianties vormen met onderzoeksinstellingen en universiteiten om lange termijn innovatiepijplijnen te waarborgen.

Vooruitkijkend is de sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur klaar voor voortdurende investeringen en samenwerking, gedreven door de onverzettelijke vraag naar geavanceerde halfgeleiders en de strategische noodzaak van veerkracht in de leveringsketen. De interactie van wereldwijde concurrentie, technologische complexiteit en geopolitieke factoren zal ervoor zorgen dat investeringen, fusies en overnames en partnerschappen centraal blijven in de evolutie van de industrie in de komende jaren.

De sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur staat voor aanzienlijke transformatie in 2025 en de jaren daarna, gedreven door zowel aanhoudende uitdagingen als opkomende kansen. Terwijl de halfgeleiderindustrie streeft naar steeds kleinere procesnodes, blijft de vraag naar geavanceerde photolithografiesystemen – met name die welke extreme ultraviolet (EUV) technologie gebruiken – stijgen. De markt wordt gedomineerd door een handvol sleutelspelers, waarbij ASML Holding een bijna monopolie behoudt op EUV-lithografiesystemen, die essentieel zijn voor het produceren van chips op 5 nm en lager. De voortdurende investeringen van ASML in high-NA (numerieke apertuur) EUV-technologie worden verwacht de mogelijkheden van photolithografie verder uit te breiden, waardoor sub-2nm fabricage in de komende jaren mogelijk wordt.

Echter, de sector staat voor verschillende uitdagingen. De complexiteit en kosten van EUV-systemen – elk kost meer dan $150 miljoen – vormen aanzienlijke toetredings- en uitbreidingsbelemmeringen. Beperkingen in de leveringsketen, met name bij de inkoop van precisie-optiek en gespecialiseerde componenten, blijven een zorg. Bijvoorbeeld, Carl Zeiss AG is een cruciale leverancier van de hoge-precisie spiegels die in EUV-systemen worden gebruikt, en elke verstoring in hun productie kan gevolgen hebben voor de hele industrie. Bovendien beïnvloeden geopolitieke spanningen en exportcontroles, vooral die met betrekking tot de Verenigde Staten, Nederland en China, de wereldwijde distributie en acceptatie van geavanceerde photolithografie-apparatuur.

Er zijn echter ook kansen. De snelle uitbreiding van kunstmatige intelligentie, high-performance computing en automotive elektronica stimuleert ongekende vraag naar geavanceerde halfgeleiders, wat op zijn beurt investeringen in gereedschappen van de volgende generatie aandrijft. Bedrijven zoals Nikon Corporation en Canon Inc. blijven innoveren in diepe ultraviolet (DUV) lithografie, gericht op volwassen nodes en speciale toepassingen waar EUV nog niet kosteneffectief is. Verder creëert de drang naar regionale halfgeleiderfabricage – geïllustreerd door nieuwe fabrieken in de Verenigde Staten, Europa en Azië – een solide pijplijn voor apparatuurorders en servicecontracten.

Ontwrichtende trends zijn ook aan de horizon. De integratie van machine learning en geavanceerde procescontrole in photolithografie-apparatuur belooft het rendement te verbeteren en de uitvaltijd te verminderen. Er is groeiende interesse in alternatieve patroonmethoden, zoals nano-imprint lithografie en gedirigeerde zelfassemblage, die de traditionele photolithografie zouden kunnen aanvullen of, in specifieke niches, ermee concurreren. Duurzaamheid wordt een cruciaal focuspunt, waarbij fabrikanten proberen de energie- en hulpbronnenintensiteit van hun tools te verminderen.

Samenvattend, terwijl de sector van de fabricage van photolithografie-apparatuur in 2025 wordt geconfronteerd met hoge technische en geopolitieke obstakels, is ze ook gepositioneerd voor groei en innovatie, ondersteund door de onophoudelijke wereldwijde vraag naar geavanceerde halfgeleiders en de voortdurende evolutie van lithografie-technologieën.

Bronnen & Referenties

Computational Lithography to Enable Faster AI Development